一:CCI HD适合用于制造和研究领域，可测量厚度至1.5微米的厚膜及厚度至50纳米的薄膜涂层。

CCI HD 是一种非接触式光学 3D 轮廓仪，具有测量薄膜和厚膜的功能。 它采用享有**的新型关联算法，来查找由我们的精密光学扫描装置产生的干涉图的相干峰和相位。 这种新型的 CCI HD 整合了世界**的非接触式尺寸测量功能和先进的厚薄膜测量技术。CCI HD 除了提供尺寸和粗糙度测量功能，还可以提供两种类型的膜厚测量。 近年来厚膜分析被用于研究厚度至约 1.5 微米的半透明涂料；测量的厚度限制取决于材料的折射率和标的物的 NA。 测量较薄的涂层被证实为难度更高。现在通过干涉测量法可以研究厚度至 50 纳米（同样取决于折射率）的薄膜涂层。 采用这种新型方法，可以在单次测量中研究膜厚、界面粗糙度、针孔缺陷以及薄涂层表面的剥离等特性。

1.2048 x 2048像素阵列，视场广，高分辨率 2.全量程0.1埃的分辨率 3.适用于0.3% - 100%的表面反射率 4.<0.2Åstrom RMS重复性，<0.1％台阶高度重复性 5.多语言版本的64位控制和分析软件 6.2.2 mm垂直范围，带闭环无压电Z轴扫描仪 7.AutoStitch作为标准配置，可高分辨率测量大型零件

二:CCI MP-HS非常适合用于研究领域，从非常粗糙的表面到非常光滑的表面，任何类型的表面它都能测量，因而具备测量各种元件的能力。

无论测量的是何种元件，无论对分析速度的要求有多高，我们创新的CCI MP-HS非接触式光学轮廓仪都能为您提供精密的3D表面测量结果。 一百万高速相机与1/10埃垂直分辨率相结合，无论是测量非常粗糙的表面，还是测量非常光滑的表面，都能获得令人不可思议的详细分析。CCI MP-HS大大地扩展了分析能力，同时又不至于让分析程序变得更复杂。 您可以测量各种各样的元件和表面，不需要进行复杂的测量模式切换，也不会给中间透镜的校准增加额外的负担。 通过标准化的方法、程序和报告，CCI MP-HS可轻松地整合到您的质量管理系统中。

1.1048 x 1048像素阵列，视场广，高分辨率 2.高级X、Y、Z拼接，扩展量程 3.RMS重复精度<0.2 埃，阶跃高度重复精度<0.1% 4.整合抗振，优化抗噪性能 5.多语言版本的Windows，64位软件

三:CCI MP 是一种多功能的非接触式 3D 轮廓仪，可测量抛光表面、粗糙表面、曲面、平面或台阶面。

CCI MP是一种高级的测量干涉仪（非接触式3D轮廓仪）。 它采用享有**的新型关联算法，来查找由我们的精密光学扫描装置产生的干涉图的相干峰和相位。CCI MP对于很多需要进行高精度3D轮廓分析的应用非常有用。 转台上可以同步装配各种各样的标的物，因而可测量多种类型的表面。 自动的工作台和自动测量程序进一步增强了测量的灵活性。CCI MP非接触式3D轮廓仪的一个关键优势就是功能多、用途广。 反射率为0.3%至100%的抛光表面、粗糙表面、曲面、平面或台阶面，都能使用一种算法进行测量，不需要为不同的表面改变模式，也不用担心会选择错误的模式。 可测量的材料类型包括： 玻璃、液体墨水、光刻胶、金属、聚合物和糊剂。

1.1048 x 1048像素阵列，视场广，高分辨率 2.经过改良的新型X、Y、Z拼接，量程多达100毫米 3.RMS重复精度<0.2埃，阶跃高度重复精度<0.1% 4.全量程埃级分辨率 5.多语言版本的Windows 7，64位软件

四:CCI光学装置

无论对分析速度的要求有多高，我们创新的CCI光学装置非接触式光学轮廓仪都能为您提供精密的3D表面测量结果。 高分辨率相机与1/10埃垂直分辨率相结合，无论是测量非常粗糙的表面，还是测量非常光滑的表面，都能获得令人不可思议的详细分析。CCI光学装置与光学研究人员和科学家的专业知识保持与时俱进，能满足光学领域的严苛测量要求。 CCI光学装置将强大的尺寸及粗糙度分析软件与工程设计融于一体，是一种非常适合用于粗糙度测量的检验工具。 CCI优质的薄膜厚度测量功能，进一步完善了为光学工业而设计的出色计量包装 。

1.2048 x 2048像素阵列，视场广，高分辨率 2.全量程0.1埃的分辨率 3.轻松测量反射率为0.3% - 100%的各种表面 4.RMS重复精度<0.2埃，阶跃高度重复精度<0.1% 5.多语言版本的64位控制和分析软件

表面的三个元素对于组件的功能至关重要。 卓越的粗糙度能力与大面积测量，先进的数据分析（2D和3D）以及泰勒·霍布森（Taylor Hobson）的专业知识相结合，可提供业界**的计量技术。 许多用户依靠CCI MP-HS解决其他仪器完全无法处理的测量问题。凭借出色的量程、*高的分辨率以及操作简便的优势，成为在众多应用场合中研发和质量保证的理想工具。
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